VPTek STORM 3000-Reticle defect inspection 设备
STORM 3000® 是 VPTek 第三代 IC Mask 缺陷检测产品，经过数年不断测试与持续改进，STORM 3000 已取得业界领先客户的评估认可。 STORM 3000 基于先进的雷射成像技术与高灵敏度的软件算法，可具备 DB、DD、SL 等检测模式，适用于 Mask Shop、FAB 对光罩生产过程、出货、及定期检测的需求，针对 180/130nm 制程，具有高精度、高效率及容易使用等优势。
VPTek STORM 3000U-IC Mask substrate defect inspection 设备
STORM 3000U 是 VPTek 新一代针对 IC Mask 基板缺陷检测产品，基于已被认可的STORM 3000 平台架构，在光学成像、传输及快取进行相应的优化、以提升易用性及降低设备成本。适用于 Mask Blank 基板生产、出货及 Mask shop 来料检测需求，针对 200nm 检测精度，具有高效率、容易使用及低成本等优势。新产品发表-VPTek IC Mask inspection 设备
VPTek IRIS 530-IC Mask double surface particle inspection设备
IRIS 530 是 VPTek 针对 IC Mask 所推出的双表面颗粒检测设备，系统采用上下两组光学系统与明场、暗场照明模式。可同时侦测 Pellicle 及 Glass 面的颗粒及脏污侦测，适用于 Mask shop 出货侦测、FAB 厂日常监控。
VPTek Tornado 2000 - Wafer surface defect inspection设备
Tornado 2000 是 VPTek 推出针对次微米级精度的晶圆全自动光学检测设备，先进的双光路光学影像系统及多种照明方案，适应各类不同材质的光学影像问题，支持D2D、D2G、C2C、D2DB、AI 等检测模式，可适用大尺寸 DIE、非数组式排布的晶圆缺陷，Tornado 2000 灵活的软硬件配置，可适用于前段、后段制程的缺陷侦测。具备灵活易用、高效率、低成本等重大优势。
VPTek Tornado 2100 - Wafer CD / OVL measurement设备
Tornado 2100 是 VPTek 推出的晶圆全自动光学 CD 及 OVERLAP 测量设备，以高分辨率的光学影像系统为基础，进一步提升图形对比度并减少了过渡像素。搭配高效能移动平台，提高了量测过程中定位的效率，减少了稳态抖动，并满足了量测重复性的严格要求。
VPTek Tornado 3000 - Wafer surface defect inspection设备
ornado 3000 是 VPTek 推出针对 8、12 吋次微米级精度的晶圆全自动光学检测设备，基于 Tornado 2000 的成熟架构，透过对光学系统的进一步升级优化，不断提升光学系统影像分辨率，以适应更为苛刻的制程要求。