VPTek STORM 3000-Reticle defect inspection 設備
STORM 3000® 是 VPTek 第三代 IC Mask 缺陷檢測產品，經過數年不斷測試與持續改進，STORM 3000 已取得業界領先客戶的評估認可。 STORM 3000 基於先進的雷射成像技術與高靈敏度的軟體演算法，可具備 DB、DD、SL 等檢測模式，適用於 Mask Shop、FAB 對光罩生產過程、出貨、及定期檢測的需求，針對 180/130nm 製程，具有高精度、高效率及容易使用等優勢。
VPTek STORM 3000U-IC Mask substrate defect inspection 設備
STORM 3000U 是 VPTek 新一代針對 IC Mask 基板缺陷檢測產品，基於已被認可的STORM 3000 平臺架構，在光學成像、傳輸及快取進行相應的優化、以提升易用性及降低設備成本。適用於 Mask Blank 基板生產、出貨及 Mask shop 來料檢測需求，針對 200nm 檢測精度，具有高效率、容易使用及低成本等優勢。新產品發表-VPTek IC Mask inspection 設備
VPTek IRIS 530-IC Mask double surface particle inspection設備
IRIS 530 是 VPTek 針對 IC Mask 所推出的雙表面顆粒檢測設備，系統採用上下兩組光學系統與明場、暗場照明模式。可同時偵測 Pellicle 及 Glass 面的顆粒及髒汙偵測，適用於 Mask shop 出貨偵測、FAB 廠日常監控。
VPTek Tornado 2000 - Wafer surface defect inspection設備
Tornado 2000 是 VPTek 推出針對次微米級精度的晶圓全自動光學檢測設備，先進的雙光路光學影像系統及多種照明方案，適應各類不同材質的光學影像問題，支援D2D、D2G、C2C、D2DB、AI 等檢測模式，可適用大尺寸 DIE、非陣列式排布的晶圓缺陷，Tornado 2000 靈活的軟硬體配置，可適用於前段、後段製程的缺陷偵測。具備靈活易用、高效率、低成本等重大優勢。
VPTek Tornado 2100 - Wafer CD / OVL measurement設備
Tornado 2100 是 VPTek 推出的晶圓全自動光學 CD 及 OVERLAP 測量設備，以高解析度的光學影像系統為基礎，進一步提升圖形對比度並減少了過渡像素。搭配高效能移動平台，提高了量測過程中定位的效率，減少了穩態抖動，並滿足了量測重複性的嚴格要求。
VPTek Tornado 3000 - Wafer surface defect inspection設備
Tornado 3000 是 VPTek 推出針對 8、12 吋次微米級精度的晶圓全自動光學檢測設備，基於 Tornado 2000 的成熟架構，透過對光學系統的進一步升級最佳化，不斷提升光學系統影像解析度，以適應更為苛刻的製程要求。